November20, 2004 Process laboratory Process Laboratorium Byggt för höga krav på –Partikelrenhet i luften –Vibrationsnivå –Säkerhet –Flexibilitet och servicevänligt

November20, 2004 Process laboratory Tillämpningar från Process laboratoriet GaAs based VCSELs InP and GaN based HEMTs SiC MESFETs and MOSFETs LCD modules MMIC amplifier

November20, 2004 Process laboratory Partikelrenhet och klimatkontroll Partiklar: –Klass 1,10,100,1000 (Partiklar per kubikfot) Renrumsklädsel: –heltäckande Ventilation: – m 3 /timme Klimat kontroll: 21 C+/- 1

November20, 2004 Process laboratory Minimering av vibrationer Processlaboratoriets bärande golv är isolerad från övriga huset Vibrationskänslig utrustning står på dämpade bord

November20, 2004 Process laboratory Process Laboratorium 1

November20, 2004 Process laboratory 9 fläkttorn driver luftventilationen via Plenum-rummet genom högabsorberande partikelfilter (HEPA) i laboratoriets tak in i Processlaboratoriet. Återluft genom hål i golvplattorna

November20, 2004 Process laboratory 9 fläkttorn driver luftventilationen

November20, 2004 Process laboratory Att konstruera ett mikrochip Kisel Substrat Substrat

November20, 2004 Process laboratory Att konstruera ett Mikrochip Si Substrat SiO 2 (glas) Växa ett oxidskikt

November20, 2004 Process laboratory Att konstruera ett mikrochip Si Substrat SiO 2 (glas) Fotokänslig Polymer (Resist) Deponera en resist

November20, 2004 Process laboratory Att konstruera ett Mikrochip Glasplatta Si Substrat SiO 2 (glas) Metal Mask(Cr) Fotokänslig Polymer (resist) Ett mönster skapas mha av en “mask”

November20, 2004 Process laboratory Att konstruera ett Mikrochip Si Substrate SiO 2 (glas) Metal Mask Photosensitive Polymer Masken passas ner på resistytan

November20, 2004 Process laboratory Att konstruera ett Mikrochip Si Substrat SiO 2 (glas) Metal Mask Ljus Polymer Belysning av Polymer med t.ex. UV ljus

November20, 2004 Process laboratory Att konstruera ett Mikrochip Si Substrate SiO 2 (glas) Metal Mask Polymer Den belysta polymeren har ändrat sin molekylstruktur (härdats)

November20, 2004 Process laboratory Att konstruera ett Mikrochip Si Substrate SiO 2 (glas) Polymer Ta bort masken

November20, 2004 Process laboratory Att konstruera ett Mikrochip Si Substrate SiO 2 (glas) Ej belyst polymer kan lösas upp (bort) i en framkallare Polymer

November20, 2004 Process laboratory Att konstruera ett Mikrochip Si Substrate Belägg hela ytan med Aluminium SiO 2 (glas) Polymer Aluminium

November20, 2004 Process laboratory Att konstruera ett Mikrochip Si Substrat Lös upp polymeren i Aceton (lift-off) SiO 2 (glas) Aluminium

November20, 2004 Process laboratory Arbetet är klart! –Antal masker: 1 –Antal process steg: 10 –Tidsåtgång: ~ 1 arbetsdag

November20, 2004 Process laboratory InP-MMIC återkopplad Transistor (HEMT-High Electron Mobility Transistor) (MMIC-Monolitisk Microwave Integrated Circuit) 13 olika masklager ~2 veckors arbete